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【电子元件】电子行业动态跟踪：日本半导体设备管制落地，设备国产化持续加速

原文出处：东方证券　贡献者：研报专业户

日本公布出口贸易管制令征求意见稿结果，与初稿基本一致。5月23日，日本经济产业省公布了出口贸易管制令征求意见稿结果（初稿于3月31日公布），正式版限制范围与初稿基本一致。该文件提出了计划“新增23类禁止出口的尖端半导体生产设备”的出口管制政令，管制适用于包括中国在内的160多个国家及地区，美国、韩国、新加坡等40余个国家获得豁免，计划在今年7月份正式实施。

日本半导体设备占全球市场份额达3成，在清洗、涂胶显影、光刻、晶圆处理等领域均占据重要地位。根据VLSI Research数据，2020年日本在全球半导体设备市场中占据31.1%的市场份额，前道设备市场中，日本在清洗、涂胶显影、光刻、晶圆处理等领域均占据重要地位，其中清洗和涂胶显影领域，日本的DNS和TEL分别为全球龙头。根据中国海关数据，2022年中国大陆步进重复光刻机进口金额14.2亿美元，日本占比28%；等离子刻蚀设备进口金额37.5亿美元，日本占比31%；其他刻蚀设备进口金额为8.72亿美元，日本占比为59.2%；热处理进口金额17.4亿美元，日本占比59%。其他前道设备类别中，我国依赖日本的主要为涂胶显影设备和清洗设备，2019年日本的TEL在涂胶显影领域在全球近乎垄断地位，占据约90%份额，日本DNS在全球清洗市场也占据近半份额，但近年来国内清洗设备发展迅速，在清洗领域对日依赖度降低明显。

国内在大部分成熟工艺节点设备取得突破，先进制程设备仍待突破。单从设备看，去胶设备，清洗设备，管式炉和扩散设备的国产化替代程度较好，而光刻机、关键核心层的刻蚀、金属层的薄膜沉积、离子注入、检测设备等难度比较大的设备，目前国内替代率低。从工艺制程覆盖角度看，国内主流设备厂商在多个环节中可覆盖28nm及以上的应用，可实现对下游的批量供应，14nm及以下设备有望逐步突破。

投资建议与投资标的

我们看好半导体设备国产化趋势，建议关注中微公司、精测电子、中科飞测、芯源微、拓荆科技、北方华创、华海清科、盛美上海、万业企业等国内领先半导体设备企业。

风险提示

国产化率不及预期；上游零部件断供风险。

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